金宏气体:高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,已有2家客户批量供货

导读 金宏气体近期在接受调研时表示,正硅酸乙酯用于半导体气相沉积工艺,相对来说测试周期较长,目前已有2家客户于今年11月开始批量供货。

金宏气体近期在接受调研时表示,正硅酸乙酯用于半导体气相沉积工艺,相对来说测试周期较长,目前已有2家客户于今年11月开始批量供货。高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,正在积极导入客户过程中,目前已有2家客户批量供货。

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